专注自主可控的
计算光刻与计算电磁核心算法引擎
武汉宇微光学软件有限公司成立于2020年，是一家专注于全国产计算光刻EDA、光学系统成像仿真CAD及光学仿真优化CAE软件开发的高新技术企业。公司承接了华中科技大学智能制造装备与技术全国重点实验室及武汉光电国家研究中心十余年的核心科研成果，致力于打破国外工业软件在光刻及光学仿真领域的长期垄断，为集成电路及泛半导体行业提供高效、灵活、自主可控的底层软件解决方案。
依托深厚的基础理论积淀与底层算法研发能力，宇微光学在光学成像、三维掩模建模、光学邻近效应校正及光刻胶模型构建等领域建立了显著的技术壁垒，现拥有核心知识产权40余项，并成功实现系列产品线的产业化落地。
公司拥有一支由海内外顶尖专家领衔的跨学科高水平团队，博士学历占比超30%。团队深耕光学工程、光电材料与集成电路的交叉融合，兼顾底层物理机制研究与工业级软件落地。公司拥有800核高性能计算集群，研发项目严格遵循CMMI标准管理，凭借扎实的产品性能与定制化、全生命周期的技术服务能力，具备支撑大规模工业软件开发、测试与交付的完备基础设施。
