致力于全国产计算光刻EDA软件、计算光学系统成像仿真CAD软件和光学仿真优化CAE软件开发。
面向先进光刻装备研发与工艺开发需求，LithoSimGo!能够实现任意波段反射/透射系统“照明-掩模-投影物镜-空间像-光刻胶轮廓”模拟，支持从“单一曝光条件评估”到“工艺窗口优化”闭环应用。在体系结构上，平台不仅具备从光学系统到光刻胶过程的端到端物理建模能力，而且能够进一步向光刻模型校准、膜系优化、光源优化及工艺窗口评估等方向延伸，形成面向装备端与工艺端协同研发的综合性仿真分析能力。
查看详情LithoOPCGo!是一款面向集成电路先进制造需求打造的国产高端EDA软件产品，聚焦版图预处理、光刻模型校准、亚分辨辅助图形生成、掩模修正、结果检查与热点分析等核心环节，构建了覆盖数据处理、模型驱动、优化求解到制造验证的完整OPC闭环。软件基于自主研发的几何数据底座与高性能图形处理引擎，能够高效支撑大规模版图读取、编辑、特征筛选、Retarget及全芯片级快速处理，兼顾高精度、高效率与高扩展性，为先进工艺节点掩模优化提供稳定可靠的软件支撑。
查看详情面向光电器件研发与工艺协同的需求，OFSS围绕器件结构建模、光学传输分析、能量分布评估、光电转换性能计算、参数优化与制造容差分析等关键环节，构建了覆盖“建模—仿真—优化—验证”的完整技术闭环。软件支持 LED、OLED、PV、OPV、MLP等多类型器件结构的可视化定义与参数化建模，能够面向不同材料体系、不同层间堆叠形式及不同工艺条件开展统一分析与协同优化，为光电器件设计开发、工艺参数匹配及性能提升提供系统化的软件支撑。
查看详情面向晶圆缺陷明场检测装备研发与检测工艺优化应用需求，InspecGo!围绕“样品与缺陷定义—照明光源建模—矢量光学成像—图像生成与差分分析—灵敏度评估—检测配置优化”的核心技术链路，构建了覆盖明场晶圆缺陷检测全过程的仿真分析与优化框架。软件可支持周期与非周期晶圆结构、跨尺度复杂图形、任意层数堆叠结构以及跨层深埋缺陷的统一建模，兼容从版图读取到自定义样品与缺陷定义的多种输入方式，并可结合材料光学常数数据库与用户自定义光学函数实现复杂材料体系下的高保真缺陷成像分析，为缺陷检测设备设计、检测参数配置及算法开发提供系统化的软件支撑。
查看详情面向先进半导体三维器件研发与工艺开发需求，Etch&DepGo!能够实现任意复杂图形下“几何构建-物理化学反应-粒子通量求解-微观形貌演化”全链路模拟，支持从“单一工艺机理验证”到“全流程虚拟制造分析”闭环应用。在体系结构上，平台不仅具备从宏观气相环境到微观原子级演变的端到端物理化学建模能力，而且能够进一步向多步骤工艺无缝串联、高深宽比通量遮蔽分析、新材料反应模型校准及三维工艺窗口评估等方向延伸，形成面向核心装备指标分解与底层工艺演化协同优化的综合性仿真分析能力。
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